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英国Thermco公司科研型高温氧化炉扩散炉LPCVD

英国Thermco公司科研型高温氧化炉扩散炉LPCVD

占地小,消耗少,专为科研设计

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    北京 丰台区 富丰路2号星火科技大厦2101
加工定制:否品牌:thermco型号:260x
用途:氧化扩散LPCVD

英国Thermco公司科研型高温氧化炉扩散炉LPCVD详细介绍

英国Thermco Systems公司成立于1962年,是世界上***的卧式扩散炉、氧化炉、退火炉、合金化炉及LPCVD炉的制造商,在全球各处的半导体制造厂里都有大量的安装应用,迄今为止安装记录已超过20000管。

Thermco专为科研客户对于占地面积小、消耗低而设计了高可靠性和稳定性的260X型扩散炉、氧化炉和LPCVD

 

 产品应用

标准半导体工艺

·LPCVD氮化硅(标准型)

·LPCVD氮化硅(低应力型)

·LPCVD斜坡温度多晶硅
·LPCVD一致晶粒多晶硅
·LPCVD氧化层TEOS(正硅酸乙脂)
·LPCVD VLTO(低温氧化)
·LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃)
· 高温氧化

· 干法氧化

· 湿法氧化

· 掺杂扩散 (3-4路液相掺杂管路 ( POCL3 or BBR3))

· 5-6路TCA或Hcl气路

· 混合气体退火
· 高温热回火
· 低温退火和合金化

· 高温驱入(Drive in)

 

标准LED工艺

·高真空退火(环境可控)

·低温合金化/退火

 

标准PV(太阳能)工艺

·湿氧/干氧

·PN结驱入

·Forming气体退火

·氢气退火

·低温热处理

·POCl3,BBr3 PN结和槽

·反射氮化膜(ARC Nitride coating)

 

标准MEMS(微机电)工艺

·低应力CVD氮化物

·氧氮化物SIPOS

·厚氧

·TEOS,良好的台阶覆盖能力

·多晶硅和掺杂多晶硅

 

 


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