美国4Wave公司离子束镀膜和刻蚀系统
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产品概述
4Wave成立于2000年，主要人员及技术均源于美国***的离子束技术公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收购后，其主要的技术及管理高层离开Commonwealth后，重新组建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究与应用离子束技术，主要产品为基于离子束技术的薄膜沉积及刻蚀系统，客户群覆盖大学、******、***技术公司等领域。
4Wave***技术
1. 低能高束流离子源
2. 偏压靶离子束沉积
3. 低能量的精准离子束刻蚀
产品特点
离子束刻蚀
1. 真空锁结构可选
2. 单片或行星式装置
3. 射频ICP离子源
4. 刻蚀终点监测 - 二次离子质谱仪
5. 基于PC+PLC的自动化控制系统架构
离子束沉积
1. 真空锁结构可选
2. 多靶自动选择
3. 射频ICP离子源
4. 辅助沉积/表面预清洗离子源
5. 晶振和光学膜厚测量
6. 偏压靶技术可选
产品应用
1.行星式气冷刻蚀系统
2.应用于磁阻、巨磁阻的离子束沉积系统
3.研发型和工业型DLC硬质薄膜沉积系统
4.AlN介质膜离子束沉积系统
5.应用于半导体存储器镀层的IBD和IBE系统
6.合金纳米涂层溅射系统
7.应用于红外探测器的离子束沉积系统
8.行星式离子铣
